Este trabalho apresenta resultados experimentais sobre guias de onda do tipo “rib” produzidos com filmes finos de TeO2-ZnO depositados pela técnica de RF “Sputtering”. Os filmes finos foram depositados em temperatura ambiente utilizando plasma Ar/O2, pressão de 5 mTorr e potência de 50 W em substratos de silício (100). Processos de litografia óptica e corrosão por plasma de SF6 foram utilizados. Os diversos testes realizados com estes processos permitiram encontrar as melhores condições para a implementação dos guias de onda. A geometria dos guias foi analisada por microscopia eletrônica de varredura (MEV). Perdas por propagação de 0,1 dB/cm (para guias de onda "rib" com largura de 10 m) e 1,5 dB/cm (para largura de 3-5 µm) foram obtidas para altura de 90 nm.