Este trabalho apresenta a produção e a caracterização de filmes finos produzidos a partir da técnica RF Magnetron Sputtering. Foram produzidos filmes finos sobre substrato de silício por meio de alvos de telureto (TeO2-ZnO) e de ouro. Foi desenvolvida metodologia adequada para a nucleação dos filmes finos. Os filmes foram caracterizados pelas técnicas de Perfilometria, Microscopia Eletrônica de Transmissão (TEM), Fluorescência de Raios-X (EDX) e medidas elétricas para a obtenção das curvas de capacitância e determinação da constante dielétrica.